鄭科探小型離子濺射儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

鄭科探小型離子濺射儀噴金儀廠家供應(yīng)通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜

產(chǎn)品型號(hào)：KT-Z1650PVD

更新時(shí)間：2024-03-27

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問(wèn)量：2155

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產(chǎn)品分類(lèi)

材料樣品處理

真空回流焊爐冷阱電解槽小型蒸鍍儀小型濺射儀等離子清洗機(jī)

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品牌	鄭科探	濺射氣體	根據(jù)需求氣體
樣品臺(tái)尺寸	φ50mm	控制方式	觸摸屏智能控制
樣品倉(cāng)尺寸	φ160x160mm	靶材尺寸	50mm
靶材材質(zhì)	金鉑銅銀	價(jià)格區(qū)間	1-5萬(wàn)
產(chǎn)地類(lèi)別	國(guó)產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,電子

鄭科探小型離子濺射儀KT-1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。

鄭科探 小型離子濺射儀 通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

技術(shù)參數(shù)；

控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類(lèi)型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測(cè)量	皮拉尼真空計(jì)（已安裝測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口

目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個(gè)系列幾十款產(chǎn)品，產(chǎn)品囊括實(shí)驗(yàn)電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機(jī)、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等，主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究，廣銷(xiāo)于各大院校，及材料研究所。

公司與國(guó)內(nèi)高校，科研院所有多層次的合作關(guān)系，建有開(kāi)放實(shí)驗(yàn)室，相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級(jí)工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開(kāi)發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念，依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力，科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作，科探儀器時(shí)刻懷著一顆真誠(chéng)的心期待與您的合作。

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